Shandong Yihold New Material Technology Development Co., Ltd. ist ein professioneller Hersteller und Lieferant von Rutil-Kunstrasen-Titandioxid in China. Unsere Hauptprojekte umfassen die Beschichtung von Titandioxid, Kunststoff-Titandioxid, Titandioxid für die Papierherstellung, Herstellung und Vertrieb von Tintentitandioxid. Wir produzieren seit über 15 Jahren Rutil-Kunstrasen-Titandioxid und freuen uns auf eine langfristige Zusammenarbeit mit Ihnen.
Als professionelle Rutil-Kunstrasen-Titandioxid-Manufaktur möchten wir Ihnen Rutil-Kunstrasen-Titandioxid anbieten. Dieses Produkt ist oberflächenmodifiziert durch Zirkonium, anorganische Aluminiumbeschichtung und organisches Behandlungsmittel, die Partikelgrößenverteilung ist gleichmäßig und moderat, es hat einen ausgezeichneten Weißgrad, Dispersion, Glanz, Deckkraft, Wetterbeständigkeit und andere Eigenschaften, die für die meisten geeignet sind. Es ist multifunktional und Allzweck-Rutil-Titandioxid. Und wir bieten Ihnen den besten Kundendienst und pünktliche Lieferung. Wir hoffen, mit qualitativ hochwertigen Produkten, angemessenem Preis und aufmerksamem Service eine freundliche kooperative Beziehung zu Ihrem Unternehmen aufzubauen und Hand in Hand eine bessere Zukunft zu schaffen.
Produktbeschreibung von Rutil-Kunstrasen-Titandioxid:
Molekulare Formulierung: Ti02
Molekulargewicht: 79,9
Eigenschaft: Spezifisches Gewicht von 3,9, stabil
Aussehen: Weißes Pulver
Qualitätsstandard
Das Produktverzeichnis ist Gegenstand des Prüfberichts
Qualitätsindex |
Qualitätsanforderungen |
Der Gehalt an Titandioxid ,% |
â¥97,0 |
Helligkeit |
â¥97,5 |
Ölaufnahme ,g/100g |
â¤15,5 |
Tönungsstärke (im Vergleich zum Standardmuster) |
â¥116 |
Der Gehalt an Rutil ,% |
â¥97,5 |
Öldispersion (Hegman) |
â¥6.5 |
Rückstand auf Sieb (45 μm), % |
â¤0,02 |
Volatil bei 105, % |
â¤0,25 |
Verwendet:Kann in Farben, Tinten, Beschichtungen, Leder, Farbstoffen, Farbchips, Kunststoffen, Gummi und anderen Bereichen weit verbreitet sein.
Verpackung:Kunststoffgefütterter Verbundstoffsack, Nettogewicht 25kg.